德国布鲁克中国代理薄膜光学测量系统基于非接触式光学技术，集成光谱反射、光谱椭偏及多角度联用等多种配置，内置先*材料模型与全局优化算法，可快速、无损、高精度同步测定薄膜厚度、折射率、消光系数等参数。专*MADP与DPSD技术实现折射率分辨率高达2×10⁻⁵，测量范围覆盖从亚原子层到超百微米厚度。广泛应用于半导体、光电子、先*封装及硅光子学等领域，为薄膜表征提供精准可靠的解决方案。

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德国BRUKER薄膜光学测量系统FilmTek 2000基于非接触式光学技术，集成光谱反射、光谱椭偏及多角度联用等多种配置，内置先*材料模型与全局优化算法，可快速、无损、高精度同步测定薄膜厚度、折射率、消光系数等参数。专*MADP与DPSD技术实现折射率分辨率高达2×10⁻⁵，测量范围覆盖从亚原子层到超百微米厚度。广泛应用于半导体、光电子、封装及硅光子学等领域，为薄膜表征提供精准可靠的解决方案。

德国BRUKER薄膜光学测量系统FilmTek 2000M基于非接触式光学技术，集成光谱反射、光谱椭偏及多角度联用等多种配置，内置先*材料模型与全局优化算法，可快速、无损、高精度同步测定薄膜厚度、折射率、消光系数等参数。专*MADP与DPSD技术实现折射率分辨率高达2×10⁻⁵，测量范围覆盖从亚原子层到超百微米厚度。广泛应用于半导体、光电子、封装及硅光子学等领域，为薄膜表征提供精准可靠的解决方案。

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