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元器件失效分析方法

  • 发布日期:2024-12-10      浏览次数:199
    • 元器件失效分析方法

      器件一旦坏了,千万不要敬而远之,而应该如获至宝。

      开车的人都知道,哪里最能练出驾驶水平?高速公路不行,只有闹市和不良路况才能提高水平。社会的发展就是一个发现问题解决问题的过程,出现问题不可怕,但频繁出现同一类问题是非常可怕的。

      失效分析基本概念

      定义:对失效电子元器件进行诊断过程。

      1、进行失效分析往往需要进行电测量并采用先进的物理、冶金及化学的分析手段。

      2、失效分析的目的是确定失效模式和失效机理,提出纠正措施,防止这种失效模式和失效机理的重复出现。

      3、失效模式是指观察到的失效现象、失效形式,如开路、短路、参数漂移、功能失效等。

      4、失效机理是指失效的物理化学过程,如疲劳、腐蚀和过应力等。

      失效分析的一般程序

      1、收集现场场数据

      2、电测并确定失效模式

      3、非破坏检查

      4、打开封装

      5、镜验

      6、通电并进行失效定位

      7、对失效部位进行物理、化学分析,确定失效机理。

      8、综合分析,确定失效原因,提出纠正措施。

      1、收集现场数据:

      应力类型

      试验方法

      可能出现的主要失效模式

      电应力

      静电、过电、噪声

      MOS器件的栅击穿、双极型器件的pn结击穿、功率晶体管的二次击穿、CMOS电路的闩锁效应

      热应力

      高温储存

      金属-半导体接触的AlSi互溶,欧姆接触退化,pn结漏电、Au-Al键合失效

      低温应力

      低温储存

      芯片断裂

      低温电应力

      低温工作

      热载流子注入

      高低温应力

      高低温循环

      芯片断裂、芯片粘接失效

      热电应力

      高温工作

      金属电迁移、欧姆接触退化

      机械应力

      振动、冲击、加速度

      芯片断裂、引线断裂

      辐射应力

      X射线辐射、中子辐射

      电参数变化、软错误、CMOS电路的闩锁效应

      气候应力

      高湿、盐雾

      外引线腐蚀、金属化腐蚀、电参数漂移

      2、电测并确定失效模式

      电测失效可分为连接性失效、电参数失效和功能失效。

      连接性失效包括开路、短路以及电阻值变化。这类失效容易测试,现场失效多数由静电放电(ESD)和过电应力(EOS)引起。

      电参数失效,需进行较复杂的测量,主要表现形式有参数值超出规定范围(超差)和参数不稳定。

      确认功能失效,需对元器件输入一个已知的激励信号,测量输出结果。如测得输出状态与预计状态相同,则元器件功能正常,否则为失效,功能测试主要用于集成电路。

      三种失效有一定的相关性,即一种失效可能引起其它种类的失效。功能失效和电参数失效的根源时常可归结于连接性失效。在缺乏复杂功能测试设备和测试程序的情况下,有可能用简单的连接性测试和参数测试方法进行电测,结合物理失效分析技术的应用仍然可获得令人满意的失效分析结果。

      3、非破坏检查

      名称

      应用优势

      主要原理

      X射线透视技术

      以低密度区为背景,观察材料的高密度区的密度异常点

      透视X光的被样品局部吸收后成象的异常

      反射式扫描声学显微术(CSAM

      以高密度区为背景,观察材料内部空隙或低密度区

      超声波遇空隙受阻反射


      4、打开封装

      开封方法有机械方法和化学方法两种,按封装材料来分类,微电子器件的封装种类包括玻璃封装(二极管)、金属壳封装、陶瓷封装、塑料封装等。Œ

      机械开封

      化学开封

      5、显微形貌像技术

      光学显微镜分析技术

      扫描电子显微镜的二次电子像技术

      电压效应的失效定位技术

      6、半导体主要失效机理分析

      电应力(EOD)损伤

      静电放电(ESD)损伤

      封装失效

      引线键合失效

      芯片粘接不良

      金属半导体接触退化

      钠离子沾污失效

      氧化层针孔失效